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1200℃開啟式真空/氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)

CVD-TF12P50/60/80/100? ?CVD-TF12T50/60/80/100? ?CVD-TF12P50/60/80/100S? ?CVD-TF12T50/60/80/100S
此款CVD生長系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。 優點 爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制成,溫場均勻節能50%以上
自主研發的空氣導流隔熱技術保證箱內各部件的使用壽命及恒溫效果
…… 安全性 過升報警、菜單鎖定、過升防止、復電延時
采用單向閥技術,使氣體流量在可控壓力范圍內控制,保證安全
■ 產品特點

提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環境,應用在半導體、納米技術、碳纖維等領域

使用溫度范圍? ?300~1200℃? ? ? ? ? ? ? 溫度控制 ? ?±1℃? ? ? ? ??管徑φ50φ60φ80φ100

■產品特點:

爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制成,溫場均勻節能50%以上

自主研發的空氣導流隔熱技術保證箱內各部件的使用壽命及恒溫效果

啟動電爐,排溫風機同時自動運行,試驗結束后,排溫風機將繼續運行,直至爐體溫度低于60℃,排溫風機自行停止,有效保護了爐體表面

爐門開啟自動斷電、超溫保護功能、漏電保護功能,以確保使用的安全性

電路采用連續加熱輸出方式,雙回路供電,強弱電單獨走線提高了系統的穩定性

加熱模塊采用直流信號調節輸出功率,避免了感應電對控制信號的干擾

操作按鍵選用低壓金屬按鈕,自帶狀態指示燈,操作安全直觀

上下爐體采用航空插頭連接方式,連接安全方便

氣路總成采用食品級316不銹鋼制成,具有耐蝕性,耐大氣腐蝕性和耐高溫強度好,無磁性

采用數顯流量顯示儀,配合質量流量控制器,采集數據并控制流量。重復性好,相應速度快,穩定等特點。(氣體質量流量控制系統)

自動控制與手動控制切換功能,自動控制模式能通過設定值自動開啟/關閉真空泵,使容器內保持在一定的真空壓力范圍內。手動控制模式使用用戶通過真空泵開啟/關閉按鈕直接操作真空泵。以滿足不同實驗的需要。(中真空控制系統)

電磁閥緩啟動技術,使電磁閥在真空泵開啟10秒鐘后打開,使爐管內系統壓力保持準確,也保證了廢氣不會返回到爐管系統影響實驗效果(中真空控制系統)


■安全性:

過升報警、菜單鎖定、過升防止、復電延時。

采用單向閥技術,使氣體流量在可控壓力范圍內控制,保證安全。

采用混氣罐裝置,使氣體可以在充分混合后導入工作室內,確保不會泄露。


■ 技術參數

1200cvd-TF參數.jpg

上一個:氣體流量控制系統(ZLXT、ZKXT、FZXT)下一個:1400℃真空/氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)
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